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英國(guó)TASL TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)由愛(ài)儀器儀表網(wǎng)代理，本產(chǎn)品是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng)，用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器。現(xiàn)在熱賣中！
TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)簡(jiǎn)介：
TASLimage是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng)，用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器，例如 TASTRAK（TASL 公司生產(chǎn)）、CR39、PN3。
TASLimage系統(tǒng)的顯微鏡模塊采用了高質(zhì)量 Nikon 光學(xué)器件和超快 3D 機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng)，保證了系統(tǒng)的高測(cè)量效率、高精度及低本底等優(yōu)異性能。
TASLimage適用于中子測(cè)量、氡濃度監(jiān)測(cè)、聚變研究、α 粒子放射自顯影、鈾礦勘探、宇宙射線以及放射領(lǐng)域教學(xué)。
TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)特點(diǎn)：
全自動(dòng)聚焦，全自動(dòng)掃描點(diǎn)碼和蝕刻徑跡；
全自動(dòng)測(cè)讀批量探測(cè)器；
快速測(cè)讀，測(cè)讀時(shí)間為 30~60 秒（與參數(shù)設(shè)置相關(guān)）；
自動(dòng)修正探測(cè)器響應(yīng)衰退，保證探測(cè)器可用于 12 個(gè)月的長(zhǎng)期監(jiān)測(cè)；
高度精密的圖像分析技術(shù)，可區(qū)分徑跡與本底特征；
全自動(dòng)本底評(píng)估（對(duì)每個(gè)探測(cè)器）；
掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換為中子劑量 / 氡濃度；
數(shù)據(jù)可導(dǎo)出 excel 文件。
TASLimage軟件界面
TASTRAK核徑跡探測(cè)器
TASLimage徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
| 探測(cè)器類型 | PADC（聚丙烯二甘醇碳酸酯） |
| 兼容品牌 | TASTRAK,CR39,PN3 等，不限尺寸 |
| TASTRAK 規(guī)格 | 常規(guī)：0.5mm,0.75mm,1.0mm,1.5mm, 可定制：0.1~0.5mm，＞ 1.5mm |
| 本底徑跡 | ＜ 20tracks/cm2 |
| 蝕刻數(shù)量 | 150 個(gè)或 294 個(gè)，不銹鋼蝕刻架 |
| 蝕刻條件 (TASTRAK) | 氡：98℃ , 約 1 小時(shí)；或 75℃ , 約 6 小時(shí)； 中子： 85℃ , 約 3 小時(shí) |
| 識(shí)別徑跡密度 | ≥ 140tracks/mm2 |
| 探測(cè)限 | 氡：5Bq/m3 ~15MBq/m3 中子：下限＜ 0.25mSv |
| 線性 | 中子：優(yōu)于 5%, 不窄于 0.1mSv - 600 mSv； 氡： 3%-6%（200-5000 Bq/m3 ） |
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